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研發用真空均質機,小型真空均質機

簡要描述:

研發用真空均質機,小型真空均質機,可以有效的消除乳化過程中泡沫,可以是物料乳化的更*;真空均質機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料(易燃易爆),規避風險,提高生產的安全性。

更新時間:2015-12-11

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研發用真空均質機,小型真空均質機

 研發用真空均質機,小型真空均質機,真空均質機,小型均質機,小型均質機用于實驗室研發用,模擬工業化生產,為工業化生產提供可靠的試驗數據。
  
  真空均質機可以有效的消除乳化過程中泡沫,可以是物料乳化的更*;真空均質機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料(易燃易爆),規避風險,提高生產的安全性。
                 
 小型真空均質機是由真空系統和均質機組成,一個真空罐體和管線式均質機相結合,真空罐內可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機(普通攪拌或者刮壁攪拌),小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為CR2000/4高剪切均質機,是一款小試和中試的乳化設備,CR2000/4設備轉速高達9000rpm,三級工作頭,采用德國博格曼雙端面機械密封,乳化效果。

影響研發用真空均質機,小型真空均質機 分散乳化結果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

2 乳化頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 乳化頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4  物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)   
                         g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
shsina 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60
                        

   ,真空均質機,小型均質機,上海新浪專業從事乳化設備的研發與生產,小型均質機在全國各著名高校以及研究所都有著廣泛的應用。


  

  

 

 

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